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Superhydrophobic properties of ultrathin rf-sputtered Teflon films coated etched aluminum surfaces

Sarkar Dilip K., Farzaneh Masoud et Paynter Royston W.. (2008). Superhydrophobic properties of ultrathin rf-sputtered Teflon films coated etched aluminum surfaces. Materials Letters, 62, (8-9), p. 1226-1229.

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URL officielle: http://dx.doi.org/doi:10.1016/j.matlet.2007.08.051

Résumé

Superhydrophobicity has been demonstrated on ultrathin rf-sputtered Teflon coated etched aluminum surfaces. The etching of aluminum surfaces has been performed using dilute hydrochloric acid. An optimized etching time of 2.5 min is found to be essential, before Teflon coating, to obtain a highest water contact angle of 164 ± 3° with a lowest contact angle hysteresis of 2.5 ± 1.5°, with the water drops simply rolling off these surfaces with even the slightest inclination of the sample. The presence of − CF3 radicals along with − CF2 radicals in the ultrathin rf-sputtered Teflon films, as investigated by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), contributes to the lowering of the surface energy on the aluminum surfaces. The presence of patterned microstructure as revealed by field emission scanning electron microscope (FESEM) together with the low surface energy ultrathin rf-sputtered Teflon films renders the aluminum surfaces highly superhydrophobic.

Type de document:Article publié dans une revue avec comité d'évaluation
Volume:62
Numéro:8-9
Pages:p. 1226-1229
Version évaluée par les pairs:Oui
Date:31 Mars 2008
Sujets:Sciences naturelles et génie > Génie > Génie des matériaux et génie métallurgique
Département, module, service et unité de recherche:Départements et modules > Département des sciences appliquées > Module d'ingénierie
Mots-clés:Superhydrophobicity, Etch-patterns, Ultrathin rf-sputtered Teflon, Chemical etching, Contact angle, superhydrophobicité, Etch-modèles, Téflon rf-pulvérisé ultra-mince, gravure chimique, angle de contact
Déposé le:01 oct. 2015 00:16
Dernière modification:09 déc. 2016 14:16
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